첨단 광학 부품 제조업체는 웨이퍼 수준의 마이크로 렌즈 제조의 노출 및 경화 단계에서 양산율에 어려움을 겪고있었습니다.

• 방사능 불일치성:전통적인 자외선 램프는 큰 기판 표면에 걸쳐 균등한 빛 분포를 제공하지 못했습니다. 가장자리에 낮은 빛 강도는 불완전한 중합화와 높은 제품 거부율을 초래했습니다.

• 열 확장:적외선 열이 너무 많아서 사진 리토그래피와 경화 과정에서 섬세한 미크론 이하의 렌즈 구조가 왜곡되었습니다.

기존의 수은 전구나 분배 방식 대신고일관성 UV LED 홍수 완화 시스템반도체 수준의 광학 처리를 위해 특별히 설계된:

• 스핀 코팅 합성물 노출:이 시스템은 광 마스크를 통해 스핀 코팅 된 광 저항성 / UV 樹脂 층에 직접 전체 표면 홍수 노출을 제공합니다.

• 첨단 광학 설계:맞춤형 렌즈는 빛 분포를 최적화하여 산업 선도적인방사능 균일성 ±3%전체 진열 영역을 가로질러

• 진정한 냉동 빛의 원천:정밀한 속도로 작동하는365nm 좁은 대역 스펙트럼이 시스템은 적외선 방사선을 제거하여 기판을 실내 온도에서 유지하여 미세 구조를 열 변형으로부터 보호합니다.

• 결함 없는 제품 일관성:가장자리 경화 결함으로 인한 거부율은0, 초일률적인 자외선 광장 덕분에.

• 미크론 이하 구조적 무결성:열 스트레스 제거는 고 정밀 프레스넬 렌즈의 완벽한 차원 안정성을 보장했습니다.

• 생산 효율성 향상:즉각적인 UV LED 켜기 / 끄기 기능은 고용량 반도체 라인에서 처리량을 극대화하여 열기 시간을 제거했습니다.

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